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光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A可配冷卻循環(huán)裝置

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A可配冷卻循環(huán)裝置,主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見(jiàn)光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。

  • 更新時(shí)間:2024-06-10
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光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A可配冷卻循環(huán)裝置技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

CY-GHX-A

CY-GHX-AC

CY-GHX-B

CY-GHX-BC

主體部分

1.光源功率可連續(xù)調(diào)節(jié)大小。

2.集成式光源控制器,可供汞燈、氙燈、金鹵燈等多種光源使用。

3.汞燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

4.氙燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~1000W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

5.金鹵燈功率調(diào)節(jié)范圍:0~500W可連續(xù)調(diào)節(jié)。

反應(yīng)部分

1.石英試管規(guī)格:30ml、50ml(或定做)。

2.可同時(shí)處理8個(gè)樣品(或定做)。

3.八位磁力攪拌裝置可同步調(diào)節(jié)8個(gè)樣品的攪拌速度。

1.玻璃反應(yīng)器皿可以分別選用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率強(qiáng)力磁力攪拌器使樣品充分混勻受光。

制冷裝置(選配)

制冷裝置(標(biāo)配)

制冷裝置(選配)

制冷裝置(標(biāo)配)

控溫裝置

(可選配)

1.冷卻水循環(huán)裝置制冷量:>1000W

2.控溫范圍:-5°C到100°C

3.冷卻水循環(huán)裝置設(shè)有腳輪和底部排液閥。

光化學(xué)反應(yīng)儀CY-GHX-A可配冷卻循環(huán)裝置主要特征:

1.光化學(xué)反應(yīng)儀智能微電腦控制,可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化

2.進(jìn)口光源控制器,內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器,功率連續(xù)可調(diào),穩(wěn)定性高

3. 光化學(xué)反應(yīng)儀具有分步定時(shí)功能,操作簡(jiǎn)便

4.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料,且?guī)в杏^察窗

5.采用內(nèi)照式光源,受光充分,燈源采用耐高壓防震材質(zhì),經(jīng)久耐用

6.配有8(6/12可選)位磁力攪拌裝置,使樣品充分混勻受光

7.雙層耐高低溫石英冷阱,可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度

8.光化學(xué)反應(yīng)儀高溫度保護(hù)系統(tǒng),自動(dòng)斷電功能

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口,內(nèi)部設(shè)有2個(gè)專用插座,供燈源和攪拌反應(yīng)器用

光化學(xué)反應(yīng)儀操作說(shuō)明

1、 準(zhǔn)備工作:連接電源。使用該儀器前先把八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)放入主機(jī)箱內(nèi),石英反應(yīng)管(或反應(yīng)容器)內(nèi)放入磁子。之后檢查所需要使用的汞燈(氙燈)、反應(yīng)器以及冷卻水循環(huán)裝置是否連接好。(如下圖連接)

  2、 反應(yīng)暗箱內(nèi)設(shè)有八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)和燈的電源接口,請(qǐng)按指示連接。

  3、調(diào)節(jié)控制器上面的光源選擇,使所使用光源與控制器上面的保持一致(按光源種類和功率大小區(qū)分)

  4、依次打開(kāi)控制器上面的風(fēng)扇開(kāi)關(guān)、反應(yīng)器和燈開(kāi)關(guān),風(fēng)扇開(kāi)始工作(反應(yīng)暗箱內(nèi)空氣開(kāi)始外排。

  5、打開(kāi)八位反應(yīng)器(或磁力攪拌器)上面的電源開(kāi)關(guān),按需調(diào)節(jié)攪拌速度。

  6、光源功率調(diào)節(jié)位于控制器中心位置,可按需調(diào)節(jié)光源功率大小。

  7、控制器右上方設(shè)有微電腦定時(shí)器,可按需設(shè)置工作時(shí)間。

  注:無(wú)論使用汞燈或氙燈做實(shí)驗(yàn)時(shí),將燈源放置在石英冷阱內(nèi)使用(建議同時(shí)配套低溫冷卻循環(huán)裝置使用,避免溫度過(guò)高造成儀器損壞)。

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